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多光子非线性量子干涉首次实现 为新型量子态制备等应用奠定基础******

　　科技日报合肥1月16日电 (记者吴长锋)记者16日从中国科学技术大学获悉，该校郭光灿院士团队任希锋研究组与国外同行合作，基于光量子集成芯片，在国际上首次展示了四光子非线性产生过程的干涉。相关成果日前发表在光学权威学术期刊《光学》上。

　　量子干涉是众多量子应用的基础，特别是近年来基于路径不可区分性产生的非线性干涉过程越来越引起人们的关注。尽管双光子非线性干涉过程已经实现了20多年，并且在许多新兴量子技术中得到应用，直到2017年，人们才在理论上将该现象扩展到多光子过程，但实验上由于需要极高的相位稳定性和路径重合性，一直未获得新进展。光量子集成芯片，以其极高的相位稳定性和可重构性逐渐发展成为展示新型量子应用、开发新型量子器件的理想平台，也为多光子非线性干涉研究提供了实现的可能性。

　　任希锋研究组长期致力于硅基光量子集成芯片开发及相关应用研究并取得系列重要进展。在前工作基础上，研究组通过进一步将多光子量子光源模块、滤波模块和延时模块等结构片上级联，在国际上首次展示了四光子非线性产生过程的相干相长、相消过程，其四光子干涉可见度为0.78。而双光子符合并未观测到随相位的明显变化，这同理论预期一致。整个实验在一个尺寸仅为3.8×0.8平方毫米的硅基集成光子芯片上完成。

　　这一成果成功地将两光子非线性干涉过程扩展到多光子过程，为新型量子态制备、远程量子计量以及新的非局域多光子干涉效应观测等应用奠定了基础。审稿人一致认为这是一个重要的研究工作，并给出了高度评价：该芯片设计精良，包含多种集成光学元件，如纠缠光子源、干涉仪、频率滤波器/组合器；这项工作推动了集成光子量子信息科学与技术研究领域的发展。

川台两地举办第二届黄埔书画联展******

　　中新社成都2月3日电 (王利文)第二届“笔砚浓情·天府神韵进宝岛——川台黄埔书画联展”开幕式3日在四川成都和台湾彰化两地连线同步举行。此次书画联展共组织83幅川台两地书画艺术家的作品，于2月1日至2月28日在台湾彰化八卦山“大佛艺廊”举行为期一个月的展出。

　　“川台两地文化内涵丰富，优势各异，两岸同胞像走亲戚一样常来常往，把各自的特色文化交流开来、共享起来。”黄埔军校同学会秘书长路晓峰指出，中华文化是由包括2300万台湾同胞在内的全体中华儿女在数千年辛勤劳作中创造的，要推进两岸文化交流合作，共同建设中华民族共有精神家园，共同致力于推动两岸关系和平发展、融合发展。

　　“两岸黄埔书画联展的开办难能可贵。”台湾孔子研究院院长张世良谈及此次展览，感慨万千，他希望借由本次书画联展点燃两岸艺术交流的火花。

　　四川海外联谊会副会长文甦表示，近年来川台两地交流交往规模不断扩大，领域不断拓宽，越来越多的台胞在川创新创业、发展事业。据统计，截至2022年底，来川台湾同胞超过750万人次，交流项目达9200余项，在川台资企业2600多家，投资总额超过200亿美元。

　　开幕式现场，川台两地近200位与会代表共同见证两岸书法家连线挥毫。(完)

　　（文图：赵筱尘 巫邓炎）